微弧氧化工藝及設備基本原理及特點是：在普通陽（yáng）極氧化的基礎上，利用弧光放電增強並（bìng）激活在陽極（jí）上發生的反應（yīng），從（cóng）而在以鋁、鈦、鎂金屬及（jí）其合金為材料的工件表（biǎo）麵形成上等的強化陶瓷膜的方法。
該方法是通過（guò）用專用（yòng）的微弧氧化電源（yuán）在工件上施加高（gāo）電壓，使工（gōng）件表麵的金屬與電解質溶液相互作用，在工件表麵形成微（wēi）弧放電，在高溫、電場等因素的作用下，金屬表麵形成陶瓷膜，達（dá）到工件表麵強化、硬度大（dà）幅度提高、耐磨、耐蝕、耐壓、絕緣及抗高溫衝擊特性得到改善的目的（de）。微弧（hú）氧化工藝及設備是一（yī）種直接（jiē）在有色金屬表麵原位生長陶瓷層的新技術，該技術是*近十幾年在陽（yáng）極氧化基礎上發展起來的，但兩者在機理上、工藝上以及膜層性能上都有許多不同之處。所謂等離子（zǐ）體就是由大量的自（zì）由電子和離子組成，且在整體上表現為電（diàn）中性的物質（zhì），它被稱為固態、氣態和液態以外的第四態。處於熱等離子態的物質具有強的導電性，且能量集中，溫度較高，是一（yī）個高熱、高溫的能源。與傳統的陽極氧化法相比，微弧氧化陶瓷膜與（yǔ）基體結合牢固（gù），結構致密，具有良好的耐磨、耐腐蝕、耐高溫衝（chōng）擊和電絕緣等特性、具有廣闊（kuò）的應（yīng）用前景。
微弧氧化工藝及設備特點
（1）微（wēi）弧氧化工藝（yì）及設備大幅度地提高了材料（liào）的表麵硬度, 顯（xiǎn）微硬度在1000至2000HV(維氏硬度)，*高可達（dá）3000HV,可（kě）與硬質合金相媲美，大大超過熱（rè）處理後的高碳鋼（gāng），高合金鋼和高速工具（jù）鋼的硬度。
（2）良（liáng）好的耐磨損性能、良好的耐熱性及抗腐蝕性。這從根本上克服了鋁、鎂（měi）、鈦合金材（cái）料在應用中的缺點。
（3）有良好的絕緣性能, 絕緣電阻可達（dá）100MΩ。
（4）溶液為環保型，可達到零排放標準，符合環保排（pái）放要求。
（5）工藝（yì）穩定可靠，設備工藝（yì）簡單。
（6）反應在常溫下進行（háng），操作方便，易於掌握。
（7）基體原位生長陶瓷膜，致密均勻，結合牢固，與基（jī）體結合力達250-300Mpa。
（8）微弧氧化工（gōng）藝及設備柔韌性強，陶瓷層厚30微米的鋁片彎曲成30°角，陶瓷層完好無損；陶瓷層厚100微米的鋁片（piàn）彎曲斷（duàn）裂後（hòu），陶瓷層不開裂、不脫落。
與（yǔ）陽極氧化技（jì）術相比，微弧（hú）氧化（huà）還具有下列特點：
（1）微弧氧化（huà）采用弱堿性溶液，對周圍（wéi）環（huán）境不（bú）造成汙染，屬於清潔加工工藝和環保型表麵處理技術，微（wēi）弧氧化中（zhōng）隻放出氫氣、氧氣，對人體無害。
（2）工藝簡單，特別對於工業（yè）樣品的預處理（lǐ）不像陽極氧化要求的那樣嚴格和繁雜，隻（zhī）要求樣品表麵去汙去油，不（bú）需要去（qù）除表麵（miàn）的自然氧化層，也不需要表麵打磨。
（3）微弧氧化可以一次完成，也可以分幾次完成。特別對於氧化膜要求（qiú）很（hěn）厚的樣品可以分幾次氧化，而陽極氧化一旦中斷就必（bì）須重新開（kāi）始。
（4）在陽極氧化不易成膜的（de）某些鋁合金如（rú）Al-Cu、Al-Si等合金表麵，同樣可獲（huò）得（dé）性能很好的厚膜，尤其在Al-Cu合（hé）金表麵（如Ly12合金），可以（yǐ）形成高（gāo）硬度的厚膜，HV可達到1600以上（shàng）。